熱処理不要！未来を拓く新技術が「大学見本市2026」に登場！
熱に弱い素材でも高性能なデバイスが作れるとしたら、どんな未来が広がるでしょうか？工学院大学の相川慎也教授が開発した、熱処理をまったく必要としない画期的な薄膜トランジスタ作製技術が、来る「大学見本市2026～イノベーションジャパン」で発表されます。完全室温で実現するこの技術は、私たちの生活を大きく変える可能性を秘めています！
イベント概要と見どころ
この革新的な技術を間近で見られるチャンスです。参加を検討されている方のために、イベントの重要な情報をまとめました。
-
どんなイベント？
国立研究開発法人科学技術振興機構（JST）が主催する「大学見本市2026～イノベーションジャパン」は、大学の最新研究成果と産業応用の可能性を企業に向けて紹介するイベントです。最先端の技術が集まる、まさに「未来の種」を見つける場と言えるでしょう。 -
いつ・どこで開催？
開催日時：2026年8月27日(木)・28日(金) 10:00～17:00
開催場所：東京ビッグサイト 南展示棟 南1ホール -
参加料・入場方法は？
参加料は無料です。ただし、事前申込が必要となりますのでご注意ください。 -
見逃せないポイントは？
今回の発表の最大の魅力は、「熱処理不要、完全室温で薄膜トランジスタを作製できる」という点です。従来の製造プロセスでは高温での熱処理が必須でしたが、この技術はUV照射と静置のみで電気特性を改善し、基板温度30℃未満の室温プロセスを実現しました。これにより、熱に弱いフレキシブル基板など、これまで使用が難しかった多様な材料への応用が期待されます。 -
誰におすすめ？
フレキシブルデバイス、半導体積層プロセス、ディスプレイ、太陽電池、タッチパネル、センサー、DRAMといった分野に関心のある企業や研究者の方々にとって、未来の技術連携のヒントとなるでしょう。 -
申込・予約方法は？
事前申込が必須です。以下のJST公式ウェブサイトよりお申し込みください。
https://www.jst.go.jp/tt/fair/entry.html
画期的な室温プロセス技術の詳細
薄膜トランジスタ（TFT）は、ディスプレイの画素やセンサー回路などで電気の流れを制御するスイッチとして機能する半導体素子です。安定した電気特性を得るためには熱処理が一般的に行われてきましたが、これにより使用できる基板材料が限られていました。
工学院大学の相川慎也教授らが開発したこの新技術では、高温での熱処理だけでなく、オゾン処理も不要です。簡便なプロセスで酸化物TFTの電気特性を改善し、空気中での処理が可能であるため、特別なガス供給装置も必要としません。
熱処理が不要になったことで、耐熱性の低いフレキシブル基板など、従来の製造工程では制約があった材料への応用が期待されます。使用可能な材料の選択肢が広がることで、デバイス設計の自由度が向上し、フレキシブルディスプレイ、太陽電池、タッチパネル、センサーといった次世代デバイスへの応用はもちろん、DRAMなどの半導体積層プロセスの低温化にもつながることが見込まれ、幅広い産業分野での展開が期待されています。
特許情報
本技術に関する特許情報は以下の通りです。
-
発明の名称：薄膜トランジスタの製造方法
-
発明者：相川 慎也、山寺 真理
-
出願人：学校法人 工学院大学
-
出願番号：特願2025-021797、特願2024-146809
大学見本市での発表詳細
相川教授は、大学見本市2026にて、この最新研究成果と産業応用の可能性を企業に向けて紹介します。
-
技術紹介ブース：C-045
-
出展研究者ピッチプレゼンテーション：2026年8月28日(金) 13:50～13:55 ピッチステージA
未来の技術革新を支える可能性を秘めたこの技術を、ぜひ会場でご覧ください。事前申込をお忘れなく！
